報告時間：2023年4月3日（星期一）14:30-16:30
報告地點：昇華樓616會議室
報 告 人：鞠煥新 博士
工作單位：高德英特(北京)科技有限公司
舉辦單位：化學與化工學院、先進催化與反應工程安徽省重點實驗室、可控化學與材料化工安徽省重點實驗室、先進功能材料與器件安徽省重點實驗室
報告簡介：
表面分析技術已經廣泛應用于新材料和器件的基礎科學研究以及高科技產業中，對深入理解其中的基本物理化學性質、表界面特性和電子結構等關鍵科學問題提供了強有力的工具。面對新材料/器件中的基礎研究和技術創新，先進表征分析技術的發展和應用具有重要的意義。
本報告將針對科學研究中對表面分析技術的需求，從空間分辨、深度分辨和原位表征多個維度出發，介紹多種表面分析技術（XPS、UPS、LEIPS、AES和TOF-SIMS等）最新發展以及在材料組分、化學態、能級電子結構（價帶和導帶）以及分子結構信息等研究中的應用，嘗試為解決關鍵科學問題開拓思維和發掘突破點
報告人簡介：
鞠煥鑫，博士，PHI (China) Limited 高德英特(北京)科技有限公司應用科學家。分別于2009年和2014年于中國科學技術大學獲得學士和博士學位，畢業后在國家同步輻射實驗室從事博士后研究。2016年6月-2018年10月，中國科學技術大學國家同步輻射實驗室特任副研究員。2018年11月，加入PHI (China) Limited 高德英特(北京)科技有限公司，擔任應用與市場總監。長期從事軟X射線譜學方法學研究以及能源材料/器件界面電子性質研究，在學術研究方面與用戶合作在Science, Nature，Nature Photonics, Nature Chemistry, Nature Energy, J. Am. Chem. Soc., Angew. Chem. Int. Ed, Adv. Mater, Adv Funct Mater等期刊發表學術論文百余篇；主持/參與多個國家級科研項目。
